반도체 또 증산경쟁…D램ㆍ낸드플래시 값 올라 :: 2009/11/09 08:23

반도체 또 증산경쟁…D램ㆍ낸드플래시 값 올라
日 엘피다 20% 이상↑…삼성 내년투자 1.5조↑…대만업체들도 가동률↑

D램과 낸드플래시 가격 상승세가 지속되자 반도체 업계가 증산에 나서기 시작했다.

일본 엘피다는 지난 5일 대만 프로모스와 업무제휴를 맺고 D램 생산을 위탁함으로써 D램 생산능력을 지금보다 20%가량 늘린다고 밝혔다.

프로모스에 300㎜ 웨이퍼를 기준으로 월 3만~4만장의 생산을 맡겨 내년 하반기부터 본격적인 양산에 돌입한다는 계획이다. 이렇게 되면 엘피다의 D램 생산량은 월 22만장에서 25만장 이상으로 늘어난다.

지난 2년간 적자에 허덕이며 일본 정부로부터 300억엔의 공적자금까지 받은 엘피다가 올 3분기에 8억엔(약 100억원)의 영업이익을 낸 후 빠르게 공격 경영으로 전환하고 있는 것이다.

삼성전자는 D램과 낸드플래시의 국제 수요가 급증하자 생산라인을 풀가동하고 있다. 내년에는 반도체 부문에 올해보다 1조5000억원을 더 투자하기로 했다. 올 한 해 4조원(연결 기준)을 투자할 예정인데 내년에는 5조5000억원까지 늘린다는 생각이다. 다만 반도체 생산라인을 새로 짓지는 않고 첨단 공정으로 전환해 생산성을 향상시키기로 했다.

삼성전자 관계자는 "D램의 주력인 50나노 공정을 40나노로 전환하고 낸드플래시의 주력도 40나노급에서 30나노급으로 전환해 원가 절감과 생산량 증대를 꾀하기로 했다"고 밝혔다. 나노 수치가 낮아지면 그만큼 회로를 미세하게 그릴 수 있어 칩의 크기는 작아지고 성능은 향상된다. 생산성을 따지면 40나노급 D램 공정은 50나노급에 비해 60%, 30나노급 낸드플래시는 40나노급에 비해 약 50% 향상된다.

하이닉스는 올해 반도체사업에 1조원을 투자했는데 내년에는 50% 이상 늘려 최소 1조5000억원을 투입하기로 했다. 생산라인 신설 또는 증설보다는 첨단 공정 전환을 통한 생산성 향상에 초점을 맞추기로 했다.

지난해 하반기 불어닥친 글로벌 금융위기 이후 잔뜩 움츠렸던 대만 반도체업체들의 움직임도 빨라지고 있다. 올해 초만 해도 반도체 판매가격이 생산원가 밑으로 떨어지자 공장 가동률을 30%대까지 떨어뜨렸는데 최근 들어 가동률을 높이고 있다. 일본 엘피다, 미국 마이크론과 연계해 이들이 수주한 물량을 만들어주고 앞선 기술력도 제공받는다는 전략이다.

낸드플래시 업계 2위인 도시바도 3분기에 흑자로 돌아서면서 삼성전자를 따라잡는다는 목표로 전열을 재정비하고 있다.

[김대영 기자 / 신헌철 기자]


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